特許

J-GLOBAL ID：200903001340944552

表面処理方法及び装置。

発明者： 市川 直樹 ,  松本 壮平 ,  鈴木 章夫 ,  高田 尚樹 ,  松本 純一 ,  加納 誠介 ,  鈴木 堅吉
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-142434
公開番号（公開出願番号）：特開2008-300442
出願日： 2007年05月29日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：

【課題】 帯状物体やベルトに固定した物体、或いは線状物体の表面を液体により処理するに際して、効率的な処理を行いまた装置全体を小型化する。【解決手段】 帯状物体、またはベルトに固定した物体、或いは線状物体等の被処理物体を処理室の片側端面の入口開口から導入し、他側の端面の出口開口から導出するとき、前記片側端面側に設けた液体導入口から導入した液体を処理室内を移動する被処理物体との接触により前記出口開口側に流動させる。その際、前記出口開口側に流動する液体に対して前記被処理物体の移動方向と直角方向に対して傾斜する攪拌部により処理室内の液体流を攪拌する。また、被処理物体を処理室内において処理室中心から偏在して配置し、処理効果を促進する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理物体を処理室の片側端面の入口開口から導入し、他側の出口開口から導出するとき、前記片側端面側に設けた液体導入口から導入した液体を処理室内を移動する被処理物体との接触により前記出口開口側に流動させ、 前記出口開口側に流動する液体に対して前記被処理物体の移動方向と直角方向に対して傾斜する攪拌部により処理室内の液体流を攪拌することを特徴とする表面処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L21/304 642D ,  H01L21/304 642A ,  H01L21/304 642B ,  H01L21/30 569A

Fターム (15件)：

5F046LA11 ,  5F046LA12 ,  5F157AA01 ,  5F157AB33 ,  5F157AB62 ,  5F157AB84 ,  5F157AB94 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157AC52 ,  5F157BB03 ,  5F157BB08 ,  5F157DB02 ,  5F157DB17 ,  5F157DC84

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 太陽電池基板の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-073057   出願人：京セラ株式会社
• 液晶表示装置の製造装置およびその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-290666   出願人：松下電器産業株式会社
• シャドウマスクの製造装置及び製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-100944   出願人：株式会社東芝

審査官引用 (3件)

• 横型酸洗装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-106629   出願人：住友金属工業株式会社
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-141338   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 酸洗設備
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-182866   出願人：三菱重工業株式会社, 川崎製鉄株式会社