特許

J-GLOBAL ID：200903001341040380

リソグラフィー用ペリクル

発明者： 浜田 裕一 ,  永田 愛彦 ,  白崎享 ,  樫田周 ,  久保田 芳宏
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-075671
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289599
出願日： 1993年04月01日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はLSI、超LSIなどの半導体装置あるいは液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用される、長寿命で性能のよいリソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、フッ素系有機物からなるペリクル膜を、常温で固体状のフッ素系有機物と常温で液体状のフッ素系有機物との混合物からなる接着剤で、ペリクル枠に接着してなることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

フッ素系有機物からなるペリクル膜を、常温で固体状のフッ素系有機物と常温で液体状のフッ素系有機物との混合物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027