露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-199676
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050950
出願日： 1995年08月04日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】ミックス・アンド・マッチ方式で例えばクリティカルレイヤとミドルレイヤとが混在するような基板に露光を行う場合に、それら2層間のパターンの重ね合わせ精度を高める。【解決手段】クリティカルレイヤのショット領域SCq,SC(q+1),SC(q+2)にそれぞれウエハマーク及びバーニアマークの像を露光し、それらのショット領域上のミドルレイヤのショット領域SDr,SD(r+1)にバーニアマークの像を露光する。2層のショット領域が跨ることなく重なった領域、即ちショット領域SCq及びSC(q+1)をそれぞれ基準計測領域として、例えば基準計測領域SCq内の2つの計測点36A,36Bで2層のバーニアマークの位置ずれ量を計測して、X方向のショット倍率の補正値を求め、この補正値を用いて結像特性を補正する。

請求項（抜粋）：

互いに大きさの異なる露光フィールドを有する第1及び第2の露光装置を用いて、感光基板上にマスクパターンを重ねて露光する露光方法において、前記第1及び第2の露光装置を用いて評価用の感光基板上に順次、重ね合わせ精度計測用マークの形成された第1及び第2のマスクパターンを重ねて転写露光し、前記評価用の感光基板上で前記第1の露光装置の露光フィールドを単位とするショット領域と前記第2の露光装置の露光フィールドを単位とするショット領域とが互いにはみ出すことなく重なった基準計測領域内の所定の計測点で、重ねて転写露光された前記重ね合わせ精度計測用マークの像の位置ずれ量を計測し、該計測結果に基づいて、前記第1の露光装置で露光された感光基板上に前記第2の露光装置で露光する際の位置合わせ、又は結像特性の補正を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 516 B , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 521

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-228309
特開平3-230513
リソグラフィ方法及び該方法に用いられる露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-162597 出願人：株式会社ニコン

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