特許

J-GLOBAL ID：200903001353527411

硬質炭素膜とその製造方法

発明者： 川合 弘 ,  吉岡 剛 ,  大原 久典 ,  織田 一彦
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 川瀬 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-037241
公開番号（公開出願番号）：特開平5-202477
出願日： 1992年01月27日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：

【要約】【目的】 硬質炭素膜は剥離し易いので従来1μmを越える膜厚のものは製造することができなかった。しかし耐摩耗部品や摺動部品を製作するには厚い膜厚の硬質炭素膜が要求される。厚くて剥離しない硬質炭素膜を提供することが目的である。【構成】 硬質炭素膜の形成温度を変化させる。初期は低温で形成し終期は高温で形成する。低温で形成した部分の硬度は低くビッカ-ス硬度が2000〜4000で高温で形成した部分の硬度は高くビッカ-ス硬度が4000〜10000とする。

請求項（抜粋）：

基体の上に形成した硬質炭素膜であって、厚み方向に硬度が変化しており、基体側の硬度がビッカ-ス硬度で2000〜4000の範囲にあり、表面側の硬度が4000〜10000の範囲にあり、膜厚が1μm〜100μmである事を特徴とする硬質炭素膜。