特許

J-GLOBAL ID：200903001359912791

光学素子の製造方法

発明者： 十川 文博 ,  堀 義和
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-275184
公開番号（公開出願番号）：特開平5-113503
出願日： 1991年10月23日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：

【要約】【目的】 電子ビーム露光方法に関するものであり、電子ビームレジストの残膜量をほぼ連続的に精度よく制御する事ができ、回折効率の高い光素子を作製する事が可能な電子ビーム露光方法を提供する。【構成】 電子ビームの偏向量を離散的な値で制御するディジタル走査方式で、かつ塗りつぶし走査方式の電子ビーム露光方法において、走査間隔を変調することにより電子ビームのドーズ量を調整し、電子ビームレジストの残膜量をほぼ連続的に精度よく制御するので、回折効率の高い光素子を作製することが可能となる。

請求項（抜粋）：

電子ビームの偏向量を離散的な値で制御するディジタル走査方式で、かつ塗りつぶし走査方式の電子ビーム露光方法において、走査間隔を変調することにより電子ビームのドーズ量を調整し、電子ビームレジストの残膜量を制御する光学素子の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G03F 7/20 504 ,  G03H 1/04 ,  H01L 21/027