特許

J-GLOBAL ID：200903001361472065

処理装置

発明者： 白川 英一 ,  衛藤 昭信
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-287323
公開番号（公開出願番号）：特開平5-102023
出願日： 1991年10月08日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：

【要約】【目的】被処理体に供給される処理液ガスの濃度を確実かつ正確に制御できる処理装置を提供する。【構成】処理液気化部に超音波振動子10を設ける。この超音波振動子10にHMDS液12を滴下ノズル17によって液滴として滴下し、超音波振動子10の端子から滴下衝撃により生じるパルス信号を液量検出器15によって検出することによって液量を検出し、その検出信号を制御部18に伝達して、開閉弁16を制御することによってHMDS液12の供給量を監視しながら制御する。

請求項（抜粋）：

被処理体処理部と、処理液収容部と、処理液気化部とを具備する処理装置において、上記処理液気化部に超音波振動子を設け、またこの超音波振動子に所定量の処理液を供給する処理液供給手段を設けると共に、上記超音波振動子に液量検出手段を接続し、この液量検出手段の出力によって上記処理液供給手段の処理液供給を制御することを特徴とする処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 341 ,  H04R 17/00 331