シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機EL素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：宮▲崎▼主税 , 目次誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-083135
公開番号（公開出願番号）：特開2007-256782
出願日： 2006年03月24日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：

【課題】感光性を有し、短時間で現像でき、かつ感光性組成物に由来した着色がない薄膜パターンを形成することを可能とするシリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機EL素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタを提供する。【解決手段】SiH基を有する少なくとも1種のシリコン含有ポリマーと、光線もしくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有し、シリコン含有ポリマーが、下記式(1)で表される2個の加水分解性基を有する少なくとも1種のシラン化合物(A)を重合して得られたポリマーからなり、シラン化合物(A)が、SiH基を有するシラン化合物を含む、シリコン含有感光性組成物。SiHp(X)2(R1)2-p・・・式(1)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

SiH基を有する少なくとも1種のシリコン含有ポリマーと、光線もしくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物とを含有し、前記シリコン含有ポリマーが、下記式(1)で表される2個の加水分解性基を有する少なくとも1種のシラン化合物(A)を重合して得られたポリマーからなり、前記シラン化合物(A)が、SiH基を有するシラン化合物を含むことを特徴とする、シリコン含有感光性組成物。 SiHp(X)2(R1)2-p・・・式(1) 上記式(1)中、Xは加水分解性基を表し、R1は炭素数が1〜30である非加水分解性の有機基を表し、pは0〜2の整数を表す。pが0であるとき、2つのR1は同一であってもよく異なっていてもよい。2つのXは同一であってもよく異なっていてもよい。

IPC (7件)：

G03F 7/075 , H01L 21/027 , C08G 77/12 , H01L 21/768 , H01L 23/522 , H01L 29/786 , H01L 21/312

FI (8件)：

G03F7/075 511 , H01L21/30 502R , C08G77/12 , H01L21/90 S , H01L29/78 619A , H01L29/78 617T , H01L21/312 C , H01L21/312 D

Fターム (67件)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA04 , 2H025AB13 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AD01 , 2H025BD55 , 2H025BE00 , 2H025CB33 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J246AA03 , 4J246AB06 , 4J246BA04X , 4J246BA040 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB022 , 4J246CA01U , 4J246CA010 , 4J246CA40U , 4J246CA40X , 4J246CA400 , 4J246FA131 , 4J246FA142 , 4J246FA431 , 4J246FA432 , 4J246FA572 , 4J246GB04 , 4J246GD08 , 4J246HA63 , 5F033RR23 , 5F033RR27 , 5F033SS21 , 5F033SS22 , 5F033VV15 , 5F058AA10 , 5F058AC03 , 5F058AC07 , 5F058AD05 , 5F058AD08 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AG03 , 5F058AH01 , 5F058AH02 , 5F058AH03 , 5F110AA16 , 5F110BB01 , 5F110BB09 , 5F110CC01 , 5F110CC07 , 5F110DD02 , 5F110FF01 , 5F110GG02 , 5F110GG05 , 5F110GG13 , 5F110GG15 , 5F110HL07 , 5F110NN03 , 5F110NN24 , 5F110NN27 , 5F110QQ19

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開昭63-40142号公報

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