特許

J-GLOBAL ID：200903001385268108

ビーム列検出方法および検出用位相フィルター

発明者： 飯塚 隆之
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 金井 英幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-253564
公開番号（公開出願番号）：特開2002-075816
出願日： 2000年08月24日
公開日（公表日）： 2002年03月15日
要約：

【要約】【課題】 検出結果を即時に知ることができ、かつ、ビームスポットの間隔を正確に特定することができるビーム列検出方法を提供すること。【解決手段】 マルチビーム描画装置は、光源1、ビームエクスパンダー2、回折分岐素子3、収束レンズ4、リレー光学系5、マルチチャンネル変調器6、コリメートレンズ7、ポリゴンミラー8、fθレンズ9、描画面10を備える。ビーム列の検出時には、ビームエクスパンダー2と回折分岐素子3との間に、光束Lの断面を扇形の4つのエリアに分割し、隣接するエリア間に半波長の光路差を与える位相フィルター20が配置される。。位相フィルター20を光路中に配置すると、描画面10上のビームスポット内にも位相フィルター20のエリアと相似形の光路差が生じるため、エリアの境界部分に相当する部分では光束が打ち消し合って強度がゼロになり、十字形の暗線が形成される。

請求項（抜粋）：

光源から発した光束を光分岐素子により複数に分岐して描画面上に導き、複数のビームスポットを形成し、該ビームスポットを前記描画面に対して相対的に走査させることにより前記描画面上にパターンを形成するマルチビーム描画装置におけるビーム列検出方法であって、前記光源と前記光分岐素子との間に、前記光束の断面を複数のエリアに分割して隣接するエリア間に半波長の光路差を与える位相フィルターを配置し、前記位相フィルターを配置することにより前記ビームスポット内に生じた位相ギャップにより形成される暗線を基準にして前記複数のビームスポットの相対間隔を検出することを特徴とするビーム列検出方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/30 ,  G02B 26/10

FI (3件)：

G02B 5/30 ,  G02B 26/10 B ,  H01L 21/30 529

Fターム (10件)：

2H045AA01 ,  2H045BA26 ,  2H045BA33 ,  2H049BA06 ,  2H049BA46 ,  2H049BB01 ,  2H049BC21 ,  5F046BA07 ,  5F046CB08 ,  5F046CB22