特許

J-GLOBAL ID：200903001403731341

耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 藤井 弘文 ,  表 利彦 ,  林 俊一
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-177985
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134414
出願日： 1993年07月19日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：

【要約】【目的】 感光性を有するポリイミド前駆体がいかなる構造であっても、充分に対応でき、しかも感度や解像度に優れ、特に溶液状態での保存安定性に優れた耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 特定の構造を有するオキシメチル基をカルボキシル基の保護基として導入したポリイミド前駆体と、光酸発生剤とを含有してなる組成物である。紫外線の如き活性光線を照射することによって保護基としてのオキシメチル基が脱離してポリイミド前駆体の溶解性が高まり、ポジ型パターンを形成できる。また、熱塩基発生剤を共に含有させることで発生する酸を中和でき、得られる皮膜の強度が向上する。

請求項（抜粋）：

下記(化1)にて示される構造単位を有するポリイミド前駆体と、【化1】(但し、(化1)中の矢印の結合は異性化によって置換可能な結合を示し、R1は4価の芳香族または脂肪族炭化水素残基、R2 は2価の芳香族または脂肪族炭化水素残基であり、R3 は水素原子または有機基(-CH2 -O-R4 を含む)、R4 は炭素数2以上の有機基である。)活性光線の照射によって酸性を呈する化合物、とを含有してなる耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027