特許
J-GLOBAL ID:200903001412369493

高分子光導波路及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梅田 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-149631
公開番号(公開出願番号):特開平9-329721
出願日: 1996年06月12日
公開日(公表日): 1997年12月22日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、光導波路型縮小イメージセンサを構成する高分子光導波路の基板材料とコア材料との組み合わせに依存せず、機械的強度に優れ、クロストークを抑え、光導波特性に優れ、低価格で小型化が可能で、かつ簡単な作製工程で製造可能な高分子光導波路及びその製造方法を提供するものである。【解決手段】 入射光がコア部3を伝搬して縮小され出射される高分子光導波路4において、高分子光導波路4のコア部6が形成されていない部分にコア部と同材料が充填された溝部7を設けて構成する。
請求項(抜粋):
入射光がコア部を伝搬して縮小され出射される高分子光導波路において、前記高分子光導波路のコア部が形成されていない部分にコア部と同材料が充填された溝部を設けたことを特徴とする高分子光導波路。
IPC (2件):
G02B 6/122 ,  G02B 6/13
FI (2件):
G02B 6/12 A ,  G02B 6/12 M
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開昭54-007328
  • 特開昭64-004912
  • 特開昭60-251536
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