特許
J-GLOBAL ID：200903001413544507
薄膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高 雄次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-059005
公開番号（公開出願番号）：特開2004-273565
出願日： 2003年03月05日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】安定した薄膜の形成を可能とし得る薄膜装置の提供。【解決手段】リアクタ1内に、透明石英ガラスからなり、半導体基板11にガスを供給する多数の微小孔6を複数列平行に設けた整流板7を配設してなる薄膜装置において、前記整流板の上面に、透明石英ガラスからなる水冷パイプ10が微小孔の各列間を縫うようにして溶着されている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
リアクタ内に、透明石英ガラスからなり、半導体基板にガスを供給する多数の微小孔を複数列平行に設けた整流板を配設してなる薄膜装置において、前記整流板の上面に、透明石英ガラスからなる水冷パイプが微小孔の各列間を縫うようにして溶着されていることを特徴とする薄膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4K030CA04
, 4K030EA05
, 4K030FA10
, 4K030KA26
, 4K030LA14
, 5F045AB09
, 5F045BB15
, 5F045DP03
, 5F045EB02
, 5F045EC01
, 5F045EE20
, 5F045EF05
, 5F045EF14
, 5F045EJ04
, 5F045EJ09
