特許

J-GLOBAL ID：200903001436028620

スパッタリングターゲットおよびその製造方法

発明者： 井口 征夫
出願人/特許権者： JFEスチール株式会社
代理人 (1件)： 杉村 興作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-067520
公開番号（公開出願番号）：特開2005-048280
出願日： 2004年03月10日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：

【課題】長時間安定した連続コーティングが可能な、Si系のセラミック膜をコーティングするためのスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】Cr:1〜40mass%およびAl:0.5〜20mass%を含み、残部Siおよび不可避的不純物の成分組成とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

Cr:1〜40mass%および Al:0.5〜20mass% を含み、残部Siおよび不可避的不純物からなるスパッタリングターゲット。

IPC (5件)：

C23C14/34 ,  B22D21/00 ,  B22D27/04 ,  C22C1/04 ,  C22C28/00

FI (5件)：

C23C14/34 A ,  B22D21/00 A ,  B22D27/04 G ,  C22C1/04 Z ,  C22C28/00 Z

Fターム (19件)：

4K018AA40 ,  4K018DA31 ,  4K018KA29 ,  4K029AA02 ,  4K029AA24 ,  4K029BA41 ,  4K029BA46 ,  4K029BA58 ,  4K029BB02 ,  4K029BC06 ,  4K029BD00 ,  4K029CA03 ,  4K029CA06 ,  4K029DC02 ,  4K029DC08 ,  4K029DC09 ,  4K029DC39 ,  4K029GA01 ,  4K029GA03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特公昭63-54767号公報
  
• 被膜特性に優れたSiNX系セラミック薄膜を有する超低鉄損一方向性けい素鋼板およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-123833   出願人：川崎製鉄株式会社

審査官引用 (1件)

• 特開昭64-055755