特許
J-GLOBAL ID:200903001438849558
粉末材料又は気体材料を溶射するためのプラズマ溶射装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川口 義雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-035346
公開番号(公開出願番号):特開平5-084454
出願日: 1992年02月21日
公開日(公表日): 1993年04月06日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 向上した効率を有し、諸部品の使用寿命が長く、更に基板被覆の品質が改善されるプラズマ溶射装置の提供。【構成】 プラズマ溶射装置は、長いプラズマトーチを作るために間接的なプラズマトロンを含んでなる。このプラズマトロンは、少なくとも1つ、好ましくは3つの陰極部材1を含んでなり、環状陽極部材3は、陰極部材から離れて配置され、プラズマチャネル4は陰極部材から陽極部材に伸びている。プラズマチャネルは、互いに電気的に絶縁されている複数の環状ニュートロード部材6〜12により範囲が限定されている。パウダーまたはガス材料をプラズマトーチ内に軸方向に供給するために、プラズマチャネルの端緒には陰極部材に近接配置されている供給チューブ24が備えられている。プラズマチャネルの領域33は、陰極部材に近い直径が小さい第1の領域と、陽極部材に近い直径の大きい第2の領域を有する。
請求項(抜粋):
粉末材料又は気体材料を溶射するためのプラズマ溶射装置であって、細長いプラズマトーチを発生させるのに適合した間接プラズマトロンと、粉末材料又は気体材料を前記プラズマトーチの中に軸方向に供給するための手段とを有し、前記プラズマトロンが、少なくとも1つの陰極部材と、前記陰極部材から距離をとって配置された1つの環状陽極部材と、前記陰極部材から前記陽極部材に延びた1つのプラズマチャネルとを有し、前記プラズマチャネルが、前記陰極部材の近くの第1の端部及び、前記陽極部材の近くの第2の端部を有し、前記プラズマチャネルが、前記環状陽極部材及び、互いに電気的に絶縁された複数の環状ニュートロードの各々によって範囲を限定されており、更に前記粉末材料又は気体材料を前記プラズマトーチの中に軸方向に供給するための手段が、前記プラズマチャネルの第1の端部の近くに配置されており、前記プラズマチャネルが、前記陰極部材の近くの前記プラズマトーチの区域内に位置する、縮小された直径を有する第1の領域と、縮小された直径を有する前記第1の領域と前記陽極部材との間に位置する、拡大された直径を有する第2の領域とを有することを特徴とするプラズマ溶射装置。
IPC (3件):
B05B 7/22
, C23C 4/12
, H05H 1/34
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭62-148219
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特開昭63-040300
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特公昭37-011415
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