特許
J-GLOBAL ID：200903001440743171
成膜装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-205206
公開番号（公開出願番号）：特開平10-030169
出願日： 1996年07月16日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：
【要約】【課題】 エネルギー選択により、高品位な形成膜を高い成膜速度で得る。【解決手段】 複数の羽根部20を具備し、この複数の羽根部20を被着体6と飛散粒子を連続発生させる飛散粒子発生手段(例えば、ターゲット10)との間隔内に臨ませ、高エネルギー側と低エネルギー側の飛散粒子を共に除去する機械式チョッパ16を有する。これにより、再スパッタ等による膜欠陥やドロップレットの低減,膜結晶性の向上を図りながら連続成膜ができる。具体的には、羽根部20同士を飛散方向から見て所定幅dだけ互いに重ねながら、それぞれ所定角度θで斜めに配設させるとよい。
請求項（抜粋）：
被着体と、該被着体に対して所定距離をおいて配設され、被着体に向かって飛散する飛散粒子群を連続的に発生させる飛散粒子発生手段とを備えた成膜装置において、複数の羽根部を具備し、当該複数の羽根部を前記被着体と飛散粒子発生手段との間隔内に臨ませ、前記飛散粒子群から高エネルギー側と低エネルギー側の飛散粒子を共に除去する機械式チョッパを有することを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/22 Z
, C23C 14/28
