特許

J-GLOBAL ID：200903001447902100

ケイ素系高分子およびその製造方法

発明者： 石川 満夫 ,  柏木 亨 ,  柏原 秀樹 ,  柿本 正也
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-133253
公開番号（公開出願番号）：特開平9-316202
出願日： 1996年05月28日
公開日（公表日）： 1997年12月09日
要約：

【要約】【課題】 光電子材料として有用な高分子を提供し、および主鎖にケイ素を含む高分子に対し、強い電子吸引性材料である炭素クラスター(フラーレン)を原理的かつ理想的に導入制御できる製造方法を提供する。【解決手段】 主鎖にケイ素を含む高分子の側鎖に炭素クラスター(フラーレン)を有するケイ素系高分子、およびケイ素原子に結合した置換基の少なくとも一部がアルコキシ基であるポリ(シリレンフェニレン)の該アルコキシ基をエチニルフェニル基に変換後、該エチニルフェニル基末端の水素原子と炭素クラスター(フラーレン)を反応させることを特徴とする上記のケイ素系高分子の製造方法。

請求項（抜粋）：

主鎖にケイ素を含む高分子の側鎖に炭素クラスター(フラーレン)を有するケイ素系高分子。

IPC (2件)：

C08G 77/00 NTZ ,  C08G 77/60 NUM

FI (2件)：

C08G 77/00 NTZ ,  C08G 77/60 NUM

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 有機光伝導体および素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-263529   出願人：住友電気工業株式会社
• フラーレン-オルガノシラン共重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-212008   出願人：株式会社東芝
• 特開平4-318821
  
• 特開平4-342726