特許

J-GLOBAL ID：200903001453355650

オゾン注入制御方法

発明者： 渡辺 哲文
出願人/特許権者： 株式会社明電舎
代理人 (1件)： 志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-235131
公開番号（公開出願番号）：特開2000-061481
出願日： 1998年08月21日
公開日（公表日）： 2000年02月29日
要約：

【要約】【課題】 オゾン処理と活性炭処理による除去目的物質の除去効果を把握してオゾンを注入する「最適オゾン量注入制御」を確立することを目的とする。【解決手段】 被処理水1をオゾン接触池2で注入オゾン濃度制御装置4によるオゾン処理を行った後に活性炭処理池8で活性炭処理を行うことにより、水中の溶存性の微量有機物質を除去した処理水を得るようにしたオゾン注入処理において、オゾン処理水6の溶存オゾン濃度を溶存オゾン濃度計7により測定するとともに活性炭処理水9のUV値を低濃度UV計10により測定し、演算装置5により、溶存オゾン濃度値とUV値からトリハロメタン生成能THMFPが一定になるように注入オゾン濃度制御装置4のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾンガスを注入するようにしたオゾン注入制御方法を基本手段とする。

請求項（抜粋）：

被処理水をオゾン接触池で注入オゾン濃度制御装置によるオゾン処理を行った後に活性炭処理池で活性炭処理を行うことにより、水中の溶存性の微量有機物質を除去した処理水を得るようにしたオゾン注入処理において、オゾン処理水の溶存オゾン濃度を溶存オゾン濃度計により測定するとともに活性炭処理水の紫外線吸光度を低濃度UV計により測定し、演算装置により、溶存オゾン濃度値とUV値から除去物質の1つであるトリハロメタン生成能THMFPが一定になるように注入オゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンガスを注入することを特徴とするオゾン注入制御方法。

IPC (3件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/28 ,  C02F 11/06

FI (3件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/28 D ,  C02F 11/06

Fターム (21件)：

4D024AA04 ,  4D024AA05 ,  4D024AB04 ,  4D024AB11 ,  4D024AB13 ,  4D024BA02 ,  4D024DA04 ,  4D024DB24 ,  4D050AA02 ,  4D050AA15 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050AB11 ,  4D050AB19 ,  4D050AB55 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06