特許
J-GLOBAL ID：200903001461926527
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-129930
公開番号（公開出願番号）：特開平5-304069
出願日： 1992年04月24日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：
【要約】【目的】 搬送時に半導体基板に付着する異物の影響による露光処理における焦点ずれを防止する露光装置を提供することである。【構成】 本発明では、フォトレジスト塗布から露光までの一連の搬送系において半導体基板11の裏面に接触する部分と対応するステージ1の表面位置に凹部5を設けてある。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト塗布から露光までの一連の搬送系において半導体基板の裏面に接触する部分と対応する位置に凹部を設けたステージを有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 J
, H01L 21/30 361 F
