加工方法及び成形体

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松山允之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-358296
公開番号（公開出願番号）：特開2003-155365
出願日： 2001年11月22日
公開日（公表日）： 2003年05月27日
要約：

【要約】【課題】ブロックコポリマーの自己組織化より形成されるエッチングマスクを用いた微細加工技術において、十分なエッチング耐性を有し、しかも自己組織化により形成されるパターンを忠実に転写することができる加工方法及び成形体を提供することを目的とする。【解決手段】第1のポリマー相(20A)と第2のポリマー相(20B)とが略規則的に配列した配列構造を有するブロックコポリマー層(20)を被加工体(10)の上に形成する工程と、前記第1のポリマー相を選択的に除去することにより前記ブロックコポリマー層の表面に凹部(R)を形成する工程と、前記凹部にマスク層(30)を設ける工程と、前記マスク層をマスクとして前記ブロックコポリマー層及び前記被加工体をエッチングすることにより、前記ブロックコポリマー層の前記配列構造に対応したパターンを前記被加工体に形成する工程を備えた加工方法を提供する。

請求項（抜粋）：

第1のポリマー相と第2のポリマー相とが略規則的に配列した配列構造を有するブロックコポリマー層を被加工体の上に形成する工程と、前記第1のポリマー相を選択的に除去することにより前記ブロックコポリマー層の表面に凹部を形成する工程と、前記凹部にマスク層を設ける工程と、前記マスク層をマスクとして前記ブロックコポリマー層及び前記被加工体をエッチングすることにより、前記ブロックコポリマー層の前記配列構造に対応したパターンを前記被加工体に形成する工程と、を備えたことを特徴とする加工方法。

IPC (8件)：

C08J 7/04 CER , C08J 7/00 307 , G11B 5/851 , G11B 5/855 , H01L 21/027 , H01L 21/3065 , G03F 7/26 511 , C08L 53:00

FI (8件)：

C08J 7/04 CER Z , C08J 7/00 307 , G11B 5/851 , G11B 5/855 , G03F 7/26 511 , C08L 53:00 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/302 H

Fターム (26件)：

2H096AA25 , 2H096BA09 , 2H096HA30 , 2H096KA19 , 4F006AA58 , 4F006AB73 , 4F006CA02 , 4F006DA01 , 4F006EA03 , 4F073AA06 , 4F073BA34 , 4F073BB09 , 4F073CA49 , 4F073CA51 , 5D112AA05 , 5D112AA16 , 5D112FA04 , 5D112GA18 , 5D112GA20 , 5F004BA04 , 5F004DA26 , 5F004DB01 , 5F004DB08 , 5F004EA04 , 5F004EA08 , 5F004EB08

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