特許

J-GLOBAL ID：200903001464693990

オフセット印刷装置および方法

発明者： 中原 伸之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-046167
公開番号（公開出願番号）：特開2000-238446
出願日： 1999年02月24日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：

【要約】【課題】 被印刷基板に転写されたインキパターンの表面を平坦化する。【解決手段】 凹版上にインキを供給し、このインキをパターン凹部に充填しつつ余分なインキを掻きとり、充填したインキパターンを受理してこれを被印刷基板に転写するオフセット印刷装置と方法であって、この被印刷基板2へ転写したインキパターン3を、内部のインキが未硬化の間に加圧する(b)〜(c)。

請求項（抜粋）：

凹版上にインキを供給するディスペンサーと、供給されたインキを凹版のパターン凹部に充填しつつ余分なインキを掻きとるドクター手段と、充填された凹版上のインキパターンを受理してこれを被印刷基板に転写するブランケットとを具備するオフセット印刷装置であって、この印刷装置はさらに、該被印刷基板に転写されたインキパターンの内部のインキが未硬化状態の間に同転写パターン表面を加圧する手段を具備することを特徴とする。

IPC (3件)：

B41M 7/00 ,  B41F 9/01 ,  B41F 17/14

FI (3件)：

B41M 7/00 ,  B41F 9/01 ,  B41F 17/14 E

Fターム (10件)：

2C034AA26 ,  2C034CA02 ,  2H113AA01 ,  2H113AA05 ,  2H113BA03 ,  2H113BB07 ,  2H113BB22 ,  2H113CA17 ,  2H113FA28 ,  2H113FA48