特許
J-GLOBAL ID：200903001484098656

任意で水素化されたニトリルゴムからルテニウム含有触媒残渣を除去するための方法

発明者：
クリストファー・オング

クリストファー・オング について

, 
フランツ-ヨーゼフ・メルスマン

フランツ-ヨーゼフ・メルスマン について


出願人/特許権者：
ランクセス・ドイチュランド・ゲーエムベーハー

ランクセス・ドイチュランド・ゲーエムベーハー について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-324624
公開番号（公開出願番号）：特開2009-149894
出願日： 2008年12月19日
公開日（公表日）： 2009年07月09日
要約：
【課題】任意で水素化されたニトリルゴムからルテニウム含有触媒残渣を除去するための方法を提供する。【解決手段】ルテニウム含量が非常に低いことによって特徴付けられる新規の任意で水素化されたニトリルゴムと、特定の官能化イオン交換樹脂を使用することによって、任意で水素化されたニトリルゴムの溶液からルテニウム含有触媒残渣を除去するための方法とが提供される。【選択図】なし
請求項１：
ルテニウム含有触媒残渣を含有する任意で水素化されたニトリルゴムの溶液を官能化イオン交換樹脂で処理することを含む、任意で水素化されたニトリルゴムからルテニウム含有触媒残渣を除去するための方法であって、 前記官能化イオン交換樹脂が、(i)マクロレティキュラーであり、(ii)第1級アミン、第2級アミン、チオール、カルボジチオアート、チオ尿素およびジチオカルバマート基から選択される少なくとも1種の官能基で修飾されており、そして(iii)乾燥ベースで0.2〜2.5mmの範囲の平均粒径を有することを特徴とする方法。
IPC (4件)：
C08C 2/04 ,  C08F 220/42 ,  C08F 236/04 ,  C08C 19/02
FI (4件)：
C08C2/04 ,  C08F220/42 ,  C08F236/04 ,  C08C19/02
Fターム (14件)：
4J100AM02Q ,  4J100AS01P ,  4J100AS02P ,  4J100AS03P ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100HA03 ,  4J100HA37 ,  4J100HA51 ,  4J100HC05 ,  4J100HC90 ,  4J100HD22 ,  4J100HE14 ,  4J100HE41
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)

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