特許

J-GLOBAL ID：200903001493200846

排気ガス浄化装置

発明者： 車古 尚史 ,  佐久間 芳信 ,  野尻 了
出願人/特許権者： 本田技研工業株式会社
代理人 (1件)： 下田 容一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-189455
公開番号（公開出願番号）：特開平10-030432
出願日： 1996年07月18日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：

【要約】【課題】 触媒を効率よく反応させて排気ガスの浄化性能を高く保ち、かつエンジン出力特性に影響を与えない排気ガス浄化装置を提供する。【解決手段】 2つの排気ガス浄化装置61,71をエキパイ部51の後部から膨張室52に渡って直列に配置したので、エキパイ部51の前部の排気口に近い位置で排気ガスが乱れない。また、第1の排気ガス浄化装置61で酸化反応させ、引つづき第2の排気ガス浄化装置71で酸化反応を連続的に実施させるので、第2の排気ガス浄化装置71を排気ガスの温度が低くなる位置に配置しても触媒が効率よく反応する。さらに、第2の排気ガス浄化装置71のオーバーラップ部94に補強リング93を付設し、またオーバーラップ部94のパンチング孔の密度を粗くして、不都合な変形を抑えて排気ガス浄化装置60の性能を維持する。

請求項（抜粋）：

筒状に形成するとともに触媒を担持した小径及び大径の排気ガス浄化装置を排気管のエキパイ部後部より膨張室に渡って直列に配置し、且つ前記小径の排気ガス浄化装置に大径の排気ガス浄化装置をオーバーラップさせ、前記大径の排気ガス浄化装置のオーバーラップ部に補強リングを付設したことを特徴とする排気ガス浄化装置。

IPC (4件)：

F01N 3/28 ZAB ,  F01N 3/28 301 ,  F01N 3/28 ,  F01N 3/28 311

FI (4件)：

F01N 3/28 ZAB B ,  F01N 3/28 301 L ,  F01N 3/28 301 U ,  F01N 3/28 311 S

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 排気ガス浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-164565   出願人：スズキ株式会社