特許

J-GLOBAL ID：200903001494252726

液晶表示装置とその製造方法

発明者： 川崎 清弘
出願人/特許権者： 廣輝電子股▲ふん▼有限公司
代理人 (1件)： クオンタ・ディスプレイ・ジャパン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-109730
公開番号（公開出願番号）：特開2004-317685
出願日： 2003年04月15日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】従来の製造工程数を削減した製造方法では製造裕度(マージン)が小さく歩留が低下する。【解決手段】半導体層の島化工程とエッチストップ層の形成工程をハーフトーン露光技術の導入により合理化する新規技術と、公知技術であるソース・ドレイン配線の陽極酸化工程にハーフトーン露光技術を導入することで電極端子の保護層形成工程を合理化する新規技術と、公知技術である絵素電極と走査線とを同時に形成する合理化技術との技術の組合せによるTN型液晶表示装置とIPS型液晶表示装置の4枚マスク・プロセス、3枚マスク・プロセス案を構築する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

チャネル上に保護絶縁層を有し、ソース・ドレイン配線材とは異なった導電性材質よりなるソース配線の電気的接続領域の一部を含んで形成されたソース・ドレイン配線上に感光性有機絶縁層が形成されていることを特徴とするボトムゲート型の絶縁ゲート型トランジスタ。

IPC (4件)：

G02F1/1368 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1343 ,  H01L29/786

FI (5件)：

G02F1/1368 ,  G02F1/1335 505 ,  G02F1/1343 ,  H01L29/78 619A ,  H01L29/78 616V

Fターム (76件)：

2H091FA02Y ,  2H091GA02 ,  2H091GA03 ,  2H091GA13 ,  2H091LA12 ,  2H091LA30 ,  2H092GA12 ,  2H092GA14 ,  2H092GA24 ,  2H092GA40 ,  2H092GA48 ,  2H092GA51 ,  2H092JA26 ,  2H092JA34 ,  2H092JA37 ,  2H092JA41 ,  2H092JA46 ,  2H092JB56 ,  2H092JB57 ,  2H092JB69 ,  2H092KA05 ,  2H092KA18 ,  2H092KA22 ,  2H092KB24 ,  2H092MA05 ,  2H092MA08 ,  2H092MA13 ,  2H092MA18 ,  2H092MA24 ,  2H092MA27 ,  2H092MA30 ,  2H092NA27 ,  2H092NA29 ,  2H092PA01 ,  2H092PA02 ,  2H092PA08 ,  5F110AA16 ,  5F110AA21 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110EE04 ,  5F110EE05 ,  5F110EE07 ,  5F110EE14 ,  5F110EE23 ,  5F110EE24 ,  5F110EE25 ,  5F110EE37 ,  5F110EE44 ,  5F110FF03 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG25 ,  5F110GG45 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK06 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK22 ,  5F110HK33 ,  5F110HK35 ,  5F110HM19 ,  5F110NN01 ,  5F110NN04 ,  5F110NN12 ,  5F110NN16 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN35 ,  5F110NN38 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5F110QQ02