リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 吉田裕 , 森徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-364357
公開番号（公開出願番号）：特開2006-179912
出願日： 2005年12月19日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：

【課題】リソグラフィ装置において、連続する多重露光ジョブのストリーミングに適した交換可能オブジェクト取扱装置を提供すること。【解決手段】本発明によれば、放射線ビームを条件付ける照明システムと、放射線ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射線ビームを形成することができるパターン付与デバイスを支持するパターン付与デバイス・サポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射線ビームを基板のターゲット部分に投射する投影システムと、交換可能オブジェクト装荷ステーションおよびサポートとの間で交換可能オブジェクトを交換するための交換可能オブジェクト取扱装置とを有するリソグラフィ装置が提供される。交換可能オブジェクト取扱装置は3つ以上のエンド・エフェクタを備え、各エフェクタは上記サポートのうちの1つと交換可能オブジェクトを交換することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

放射線ビームを条件付けるように構成された照明システムと、パターン付与デバイスを支持するように構築されたパターン付与デバイス・サポートであって、該パターン付与デバイスは前記放射線ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射線ビームを形成することができるパターン付与デバイス・サポートと、基板を保持するように構築された基板サポートと、前記パターン付き放射線ビームを前記基板のターゲット部分に投射するように構成された投影システムと、交換可能オブジェクト装荷ステーションと、前記サポートのうちの1つとの間で交換可能オブジェクトを交換するように構成された交換可能オブジェクト取扱装置であって、3つ以上のエンド・エフェクタを有し、該エンド・エフェクタのそれぞれが、前記サポートのうちの前記1つとの間で交換可能オブジェクトを交換することができる交換可能オブジェクト取扱装置とを有するリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515F , H01L21/30 514A , G03F7/20 521

Fターム (6件)：

5F046AA13 , 5F046BA03 , 5F046CC02 , 5F046CC09 , 5F046CD02 , 5F046CD04

引用特許：

審査官引用 (4件)

原版搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-017262 出願人：キヤノン株式会社
露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-322822 出願人：株式会社ニコン
露光方法及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-046559 出願人：株式会社ニコン

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