特許

J-GLOBAL ID：200903001521888654

スパツタ装置

発明者： 亀山 誠 ,  安藤 謙二
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丹羽 宏之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-301720
公開番号（公開出願番号）：特開平5-140741
出願日： 1991年11月18日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】【目的】 基板に磁性膜を、磁性体の異物が付着しないように形成できるスパッタ装置の提供。【構成】 磁性材料によってつくられ、かつスパッタ面3,4が空間を隔てて対面するように平行に配置された、陰極となる1対のターゲット1,2と、両ターゲット1,2の間にスパッタ面にほぼ垂直な方向のスパッタ磁界を発生する磁石12とを有し、かつ前記スパッタ磁界の外周部に同磁界の方向とほぼ平行に配置した基板10の成膜面に磁性膜を形成するスパッタ装置において、前記ターゲット1,2の外周近傍であって、ターゲット1,2に電気的に接触しない位置に磁石13を配設したもの。

請求項（抜粋）：

スパッタ面が一定の空間を置いて対面するように平行に配置された1対のターゲットと、両ターゲットの間にスパッタ面と直交する方向のスパッタ磁界を発生する第1の磁界発生手段と、前記一定の空間の外周部にターゲットの軸心とほぼ平行に配置された基板ホルダとを有するスパッタ装置において、前記ターゲットの外周部であって、ターゲットに電気的に接触しない位置に、第2の磁界発生手段を配設したことを特徴とするスパッタ装置。