特許

J-GLOBAL ID：200903001523907710

インライン式成膜装置

発明者： 竹田 和弘
出願人/特許権者： 鹿児島日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-088058
公開番号（公開出願番号）：特開平10-280142
出願日： 1997年04月07日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：

【要約】【課題】複数枚のトレイ10を二列に並べ基板17にスパッタ膜を連続に施すインライン式成膜装置において、左右スパッタ室への相互のプラズマ流出入による異常放電や基板17からの沿面放電などなくかつトレイ10を揺らさず移送し成膜できるように図る。【解決手段】左右スパッタ室に流出入するプラズマを遮断する遮蔽板1を設けることによりプラズマの異常放電を無くし、帯電するトレイ10間の放電を隣接するトレイの走行を規制する遮蔽板1の側端部を常に接触させることによって解消している。

請求項（抜粋）：

両壁に取付けられる成膜ユニットと底部より上方に伸び前記成膜ユニットの中間に配置される陽極板とを具備するチャンバと、このチャンバの上部の軌道に沿って移動するトレイハンガーと、前記陽極板を挟んで二列に並べて複数枚の非導電性基板を保持し前記トレイハンガーに吊り下げられるトレイとを備えるインライン式成膜装置において、両側の前記トレイを吊り下げるピンを固定する前記トレイハンガーの支柱部間と前記トレイの上部との隙間を遮蔽する遮蔽板を備えることを特徴とするインライン式成膜装置。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/50 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285

FI (4件)：

C23C 14/34 V ,  C23C 14/50 K ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/285 S