特許
J-GLOBAL ID：200903001526159235
連続材料供給式密閉型処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-095801
公開番号（公開出願番号）：特開平6-306608
出願日： 1993年04月22日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：
【要約】【目的】 蒸着、スパッタなどの真空処理装置、圧力下での処理装置、特殊ガス中での処理装置、等の処理雰囲気を、一定に保つために気密を確保する必要のある装置に於て、処理材料を供給する場合、気密を確保しながら装置外部から連続的に供給することで真空ポンプ、空気圧縮機等の設備を節減することを目的とする。【構成】 処理室の空間を相互に密着した多数のロールで取り囲み、端部に側壁を設け、シールで密閉する。ロールを金属ロールとゴムロールで交互に配置すれば、帯状材料の出し入れが可能となり、雰囲気保持のための設備を節減できる。
請求項（抜粋）：
処理室が、互いに平行な回転軸を持ち、隣のロールと相互に密着しながら回転する3本以上の回転ロールと、ロール端部がこの回転軸と直交する2面の側壁に密着することで構成され、回転ロールにより、未処理材料を逐次、処理室内に導入すると共に、処理済み材料を処理室から搬出することにより、処理室内の雰囲気を大気中に解放することなく、一定の密閉された処理雰囲気を保ちながら、連続的な処理を可能にすることを特徴とする処理装置。
IPC (2件)：
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