反射防止膜の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：加藤朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-241426
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064909
出願日： 1996年08月22日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】アルミニウム合金膜上に形成された窒化アルミニウムが、酸化アルミニウムに変質しない製造方法の提供。【解決手段】半導体基板の絶縁膜上にアルミニウム膜を形成した後、窒素と水素の混合ガスによりアルミニウム膜表面をプラズマ処理を行う。このとき、プラズマ処理中に半導体基板を摂氏200度以上の温度に保持する。ないしは、プラズマ処理後、半導体基板を摂氏200度以上で加熱処理する。この加熱処理により形成された窒化アルミニウム膜は、大気中の水分と反応して、酸化アルミニウムに変質せず、安定な膜となる。また、窒化アルミニウムは、禁止帯幅5.9eV以上の直接遷移型物質であり、波長200nm以下の光に対して反射防止膜となる。

請求項（抜粋）：

半導体基板上にアルミニウム合金配線を形成した後、該アルミニウム合金配線表面に窒化アルミニウム膜を形成する、ことを特徴とする反射防止膜の製造方法。

IPC (4件)：

H01L 21/3205 , G02B 1/11 , H01L 21/027 , H01L 21/318

FI (4件)：

H01L 21/88 N , H01L 21/318 A , G02B 1/10 A , H01L 21/30 574

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-299845
特開昭56-084462
特開昭59-084553

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