特許
J-GLOBAL ID：200903001532357650
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-243462
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092718
出願日： 1996年09月13日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】【課題】 自重あるいは熱によりマスクにたわみが生じても、マスクのパターンを感光基板上の露光領域の全域で常にベストフォーカス状態で露光する。【解決手段】 基準板1に設けられた開口パターンの像を投影光学系を介してマスク3のパターン面に投影し、その反射像を再度投影光学系2を介して基準板1上に投影する。基板ステージ12を移動させながら複数の位置で検出器7の受光量を検出することによりマスク3のパターンの結像面を検出する。制御系10は、基板ステージ12の基板載置面の形状がマスクのパターン結像面に一致するように基板載置面形状駆動系16を制御する。
請求項（抜粋）：
マスクステージに保持されたマスクのパターンを投影光学系を介して基板ステージ上に載置された感光基板に転写する投影露光装置において、前記マスクステージに保持された前記マスクのたわみ量を前記投影光学系を介して光電的に検出するたわみ量検出手段と、前記基板ステージの基板載置面の形状を変更するための駆動手段と、前記マスクのパターンの結像面と前記感光基板の露光領域表面とがほぼ一致するように前記たわみ量検出手段の検出結果に基づいて前記駆動手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 526
, G03F 9/00 H
