特許
J-GLOBAL ID：200903001538028330

プラズマ処理装置及び方法、ガス供給リング及び誘電体

発明者：
本郷 俊明

本郷 俊明 について

, 
大沢 哲

大沢 哲 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-085351
公開番号（公開出願番号）：特開2001-274151
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、不純物を除去することにより被処理体への高品質な処理を施すことが可能なプラズマ処理装置及び方法を提供することを例示的目的とする。【解決手段】 本発明のプラズマ処理装置は、被処理体に所定のプラズマ処理を行う処理室と、前記被処理体を処理するためのガスを供給するガス供給機構と、前記処理室に接続されて当該処理室内を減圧状態に維持する第1の真空ポンプと、前記ガス供給機構に接続されて当該ガス供給機構を排気する第2の真空ポンプを有する。
請求項（抜粋）：
被処理体に所定のプラズマ処理を行う処理室と、前記被処理体を処理するためのガスを供給するガス供給機構と、前記処理室に接続されて当該処理室内を減圧状態に維持する第1の真空ポンプと、前記ガス供給機構に接続されて当該ガス供給機構を排気する第2の真空ポンプとを有するプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/3065
FI (4件)：
H01L 21/31 C ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/302 B
Fターム (64件)：
4G075AA24 ,  4G075BC01 ,  4G075BC06 ,  4G075BD03 ,  4G075BD05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EC06 ,  4G075FB02 ,  4G075FC15 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA29 ,  4K030BA40 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA01 ,  4K030KA12 ,  5F004BA04 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BC06 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC02 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AC18 ,  5F045AD04 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AE13 ,  5F045AE15 ,  5F045AE17 ,  5F045AF03 ,  5F045BB14 ,  5F045DC51 ,  5F045DC56 ,  5F045DP03 ,  5F045EF04 ,  5F045EF05 ,  5F045EG01 ,  5F045EH02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH11 ,  5F045EH16 ,  5F045EH17 ,  5F045EJ03 ,  5F045EJ05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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