特許
J-GLOBAL ID：200903001542117720
投影露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-045434
公開番号（公開出願番号）：特開平8-241845
出願日： 1995年03月06日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：
【要約】【目的】 スリットスキャン方式において、レチクルパターン描画誤差の影響を低減させて、投影光学系の基準点とスルー・ザ・レンズ(TTL)のアライメント系の基準点との対応付け(ベースライン計測)を正確に行う。【構成】 レチクルの投影像12W上に、走査方向に2列にアライメントマーク像29AW〜29DW及び39AW〜30DWが投影され、ウエハ側の基準マーク板6上にも走査方向に第1の基準マーク35A〜D及び36A〜D、第2の基準マーク37A〜Dが形成されている。レチクル及び基準マーク板6を走査方向に移動して、レチクルアライメント顕微鏡により、マーク像29AW,30AWと基準マーク35A,36Aとの誤差を求め、同様に他のマーク像と基準マーク像との誤差を求め、それらの誤差の平均値及びTTLのウエハアライメント系で観察した第2の基準マークの位置ずれ量に基づいてベースライン計測する。
請求項（抜粋）：
マスク上のパターンの像を投影光学系を介してステージ上の基板に露光し、前記投影光学系の光軸に対して相対的に前記マスク及び前記基板を同期して走査することにより、前記マスク上のパターンの像を前記基板上に露光する露光方法において、前記マスク上に複数の計測用マークを形成し、前記投影光学系の露光フィールド内の基準点と前記投影光学系を介して前記基板上のマークを検出するアライメント系の基準点との間隔に対応する間隔で第1及び第2の基準マークが形成された基準マーク部材上の前記第2の基準マークを前記アライメント系で観察した状態で、前記マスクを前記相対的な走査の方向に移動させて、前記マスク上の複数の計測用マークの内の1つの計測用マークと前記ステージ上の前記第1の基準マークとの位置ずれ量を順次計測し、前記複数の計測用マークと前記第1の基準マークとのそれぞれの位置ずれ量の平均値及び前記アライメント系で観察した前記第2の基準マークの位置ずれ量に基づいて前記投影光学系の露光フィールド内の基準点と前記アライメント系の基準点との間隔を求めることを特徴とする投影露光方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 525 D
, G03F 9/00 H
