特許
J-GLOBAL ID：200903001547396644

画像形成材料及びアンモニウム化合物

発明者：
岩戸 薫

岩戸 薫 について

, 
曽呂利 忠弘

曽呂利 忠弘 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-398047
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107688
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】 溶解性ディスクリミネーションに優れ、現像ラチチュード、及び、耐傷性が改良され、コントラストに優れた画像の形成が可能な平版印刷版原版に有用なヒートモード対応ポジ型画像形成材料及びそれに用いる新規アンモニウム系化合物を提供する。【解決手段】 支持体上に、(A)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、(B)光熱変換剤、及び、(C)下記一般式(1)で表される化合物を含有する画像形成層を有することを特徴とする。下記式中、R1からR3は、それぞれ独立に有機基を表し、R1はN1原子を含む環構造を形成する残基を表す。R2、R3は互いに結合して環構造を形成してもよく、R2、R3の少なくとも一方がR1と互いに結合して環構造を形成してもよい。X-は、有機酸および無機酸の共役塩基を表す。N1原子を含む環構造は、ピペリジン環構造であることが好ましい。【化1】
請求項（抜粋）：
支持体上に、(A)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、(B)光熱変換剤、及び、(C)下記一般式(1)で表される化合物を含有する画像形成層を有することを特徴とする画像形成材料。【化1】[式中、R1からR3は、それぞれ独立に有機基を表し、R1はN1原子を含む環構造を形成する残基を表す。ここで、R2、R3は互いに結合して環構造を形成してもよく、或いは、R2、R3の少なくとも一方がR1と互いに結合して環構造を形成してもよい。X-は、有機酸および無機酸の共役塩基を表す。]
IPC (11件)：
G03F 7/004 501 ,  B41N 1/14 ,  C07D295/02 ,  C07D295/06 ,  C07D295/08 ,  C07D295/10 ,  C07D295/12 ,  C07D295/14 ,  C07D295/16 ,  C07D471/10 101 ,  G03F 7/00 503
FI (11件)：
G03F 7/004 501 ,  B41N 1/14 ,  C07D295/02 Z ,  C07D295/06 Z ,  C07D295/08 Z ,  C07D295/10 Z ,  C07D295/12 Z ,  C07D295/14 Z ,  C07D295/16 A ,  C07D471/10 101 ,  G03F 7/00 503
Fターム (35件)：
2H025AA04 ,  2H025AA13 ,  2H025AB03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025CB42 ,  2H025CC11 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H096AA06 ,  2H096BA09 ,  2H096EA04 ,  2H096EA23 ,  2H096GA08 ,  2H114AA04 ,  2H114AA23 ,  2H114BA02 ,  2H114BA10 ,  2H114DA31 ,  2H114DA41 ,  2H114EA01 ,  2H114EA03 ,  2H114EA05 ,  2H114EA08 ,  2H114GA01 ,  4C065AA13 ,  4C065BB09 ,  4C065CC01 ,  4C065DD01 ,  4C065EE02 ,  4C065HH09 ,  4C065JJ01 ,  4C065KK09 ,  4C065LL01 ,  4C065PP01
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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