結像特性計測方法及び該方法で使用されるマスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-264659
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120117
出願日： 1992年10月02日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】【目的】計測マーク像の位置検出用のセンサーの分解能を特に向上させることなく、且つピッチの小さい実素子パターンに対する投影光学系の結像特性をも正確に計測する。【構成】レチクル29上の計測マーク39Aを、それぞれ計測方向にピッチP2のライン・アンド・スペースパターンよりなる周期的パターン40A〜40CをピッチP1(P1>P2)で配列して形成する。投影光学系のディストーション計測時には、それら周期的パターン40A〜40Cの像をそれぞれ1個の暗線パターンの像として位置検出を行う。

請求項（抜粋）：

マスクに形成された計測用パターンの像を投影光学系を介して感光基板上に露光し、該露光された前記計測用パターンの像の計測方向の位置ずれ量を計測し、該計測された位置ずれ量より前記投影光学系の結像特性を計測する方法において、前記計測用パターンとして計測方向に共役な方向に所定ピッチで明部と暗部とが配列された周期的パターンを使用し、前記感光基板上に露光された前記周期的パターンの像の計測方向の位置ずれ量を計測する際に、前記周期的パターンの像を全体として1個の暗部よりなるパターンの像とみなして位置ずれ量を計測する事を特徴とする結像特性計測方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 9/00

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平2-294643
特開平2-214860
特開昭60-026343

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審査官引用 (4件)

特開平2-294643
特開平2-294643
特開平2-214860

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