特許

J-GLOBAL ID：200903001554391259

ケイ素中のりんの除去方法

発明者： 富田 孝司 ,  布居 徹 ,  大塚 良達 ,  張 進
出願人/特許権者： シャープ株式会社 ,  昭和アルミニウム株式会社
代理人 (1件)： 岸本 瑛之助 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-183438
公開番号（公開出願番号）：特開平8-048514
出願日： 1994年08月04日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：

【要約】【目的】 ケイ素中のりん濃度を1ppm 以下にする。【構成】 真空度0.05Torr以下の真空雰囲気中において黒鉛るつぼ2内で原料ケイ素を溶解した後、この真空雰囲気中において溶融ケイ素Lを融点以上でかつ1600°C以下の温度範囲に保持しつつ、溶融ケイ素L中に攪拌子12を浸漬し、この攪拌子12により溶融ケイ素Lを攪拌する。

請求項（抜粋）：

真空度0.05Torr以下の真空雰囲気中において黒鉛るつぼ内で原料ケイ素を溶解した後、この真空雰囲気中において溶融ケイ素を融点以上でかつ1600°C以下の温度範囲に保持しつつ、溶融ケイ素中に攪拌子を浸漬し、この攪拌子により溶融ケイ素を攪拌することを特徴とするケイ素中のりんの除去方法。

IPC (2件)：

C01B 33/037 ,  H01L 31/04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭56-032319
  
• 特開昭56-032319