特許

J-GLOBAL ID：200903001554690060

リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム

発明者： イイム ブン パトリック、クワン
出願人/特許権者： エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-404376
公開番号（公開出願番号）：特開2001-351856
出願日： 2000年12月19日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：

【要約】【課題】 リソグラフィ投影装置の精度を損う振動の主な原因である、マスクまたは基板テーブルを駆動する際の反力、特に偏揺れモーメントを容易に吸収できる平衡位置決めシステムを提供すること。【解決手段】 この投影システムのベースに対して少なくともY方向に自由に動けるように支持した二つの平衡質量20、30の上に、マスクを坦持するマスクテーブルMTをXY平面で自由に動けるように支持する。マスクの位置決めのためには、このマスクテーブルMTをそれと平衡質量20、30の間に作用する駆動装置18、17によってY方向に駆動し、19によってX方向に駆動し、その反力を平衡質量で吸収する。これらの駆動装置互いに逆方向に駆動すれば、偏揺れ運動を相殺するために必要なトルクが得られる。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置であって:放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA、IL);マスク(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT);基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT);このマスクの被照射部分をこの基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL);上記物体テーブルの少なくとも一つを位置決めするための平衡位置決めシステムで:第1平衡質量(20)および第2平衡質量(30);上記第1および第2平衡質量を少なくとも第1方向(Y)に実質的に自由に並進できるように支持するための軸受手段(21、22、23;31、32、33)および上記一つの物体テーブルと上記第1および第2平衡質量との間に直接作用して上記物体テーブルを上記第1方向と垂直な軸(Z)周りに回転するための駆動手段(18、17)で、上記物体テーブルの上記回転を行わせるために上記第1および第2平衡質量に互いに反対方向に線形力を働かせるように構成した手段;を含むことに特徴があるシステム;を含投影装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00 ,  H05K 3/00

FI (6件)：

G03F 7/22 H ,  G03F 9/00 H ,  H05K 3/00 H ,  H01L 21/30 503 F ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 515 G

Fターム (6件)：

5F046AA23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC06 ,  5F046CC18 ,  5F046DB04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 目標物移動装置、位置決め装置及び可動ステージ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-143190   出願人：株式会社ニコン