特許

J-GLOBAL ID：200903001566620172

レジスト除去溶剤

発明者： 佐藤 孝志 ,  斎藤 正樹
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-214083
公開番号（公開出願番号）：特開2000-044994
出願日： 1998年07月29日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：

【要約】【課題】 トルエン、キシレンに替わる安全性および洗浄性能の高いレジスト除去溶剤であり、特にゴム系ネガ型レジストをシリコンウエハ上に塗布後の周縁部分及び裏面部分の不要レジストをシリコンウエハに染みや垂れを残さず洗浄除去するために有用なレジスト除去溶剤を提供する。【解決手段】 炭素数6〜20から成る脂肪族炭化水素の1種または2種以上の混合物を含有するレジスト除去溶剤を用いる。前記脂肪族炭化水素としては、パラフィン系炭化水素、イソパラフィン系炭化水素およびナフテン系炭化水素から成る群から選ばれる少なくとも1つの脂肪族炭化水素が好ましく使用できる。

請求項（抜粋）：

炭素数6〜20から成る脂肪族炭化水素の1種または2種以上の混合物を含有することを特徴とするレジスト除去溶剤。

IPC (3件)：

C11D 7/50 ,  C11D 7/24 ,  G03F 7/42

FI (3件)：

C11D 7/50 ,  C11D 7/24 ,  G03F 7/42

Fターム (8件)：

2H096AA25 ,  2H096BA02 ,  2H096GA03 ,  2H096LA03 ,  4H003DA15 ,  4H003DB03 ,  4H003ED03 ,  4H003ED04