特許

J-GLOBAL ID：200903001570652054

ガス処理装置

発明者： 岩田 輝夫 ,  飯塚 洋二
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-338834
公開番号（公開出願番号）：特開平6-260687
出願日： 1993年12月02日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【目的】 セラミックスヒータの抵抗発熱線の端子部の腐食やショートを防止し、また熱電対の測定値を安定化し、これにより安定した成膜処理やエッチング処理などを行うこと。【構成】 セラミックス体3の中にセラミックスと近似した熱膨張率を有する金属管52を埋設してその端部を露出すると共に、この端部とシースワイヤ5の拡径部51とをろう付けにより接合し、これにより端子部41を処理室2内の雰囲気から隔離する。また金属管52を埋設せずにセラミックス体3の表面部にろう付けにより接合してもよいし、金属管53内を不活性ガスあるいは、減圧雰囲気とすれば端子部の酸化が抑えられる。またセラミックス体3の中に埋設された金属管53の中にシース熱電対7の先端部を密入してろう付けし測定部70を処理室2内の雰囲気から隔離して、レスポンスが真空度に影響されないようにする。

請求項（抜粋）：

セラミックス体の中に抵抗発熱体を内蔵してなるセラミックスヒータを気密な処理室の中に配置し、給電線の一端を端子部を介して抵抗発熱体に接続すると共に他端側を前記処理室の外に配線してなるガス処理装置において、前記端子部と給電線とを金属管の中に当該金属管とは絶縁された状態で収納し、この金属管の一端側をセラミックス体の中に埋設すると共に他端側を処理室の壁部に気密に接合して端子部及び給電線を処理室内の雰囲気から隔離し、前記金属管の少なくともセラミックス体に埋設される部分は、セラミックス体に近似した熱膨脹率を有するものであることを特徴とするガス処理装置。