特許
J-GLOBAL ID：200903001578676378
セラミック加熱装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-015674
公開番号（公開出願番号）：特開平10-212168
出願日： 1997年01月29日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：
【要約】【課題】マイクロ波による加熱装置内で一軸加圧する場合のモールドとして用いられているアルミナ、BNなどは強度が低く破損する等の問題があった。【解決手段】モールド2内に収納されたセラミック試料7に、一軸加圧を付加するとともにマイクロ波を照射して加熱するためのセラミック加熱装置であって、モールド2を、1400°C抗折強度300MPa以上、測定周波数10GHzにおける誘電損失が5×10-4以下の窒化ケイ素質焼結体により形成することにより、一軸加圧下、1000°C以上の高温でのマイクロ波加熱時においてモールド2の破損やクラックの発生を防止する。
請求項（抜粋）：
モールド内に収納されたセラミック試料に、一軸加圧を付加するとともにマイクロ波を照射して加熱するためのセラミック加熱装置であって、前記モールドを、1400°Cにおける抗折強度が300MPa以上、測定周波数10GHzにおける誘電損失が5×10-4以下の窒化ケイ素質焼結体により形成したことを特徴とするセラミック加熱装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C04B 35/64 F
, F27D 11/00
