特許

J-GLOBAL ID：200903001582556450

濃淡画像のパターンマッチング装置

発明者： 河内 雅弘
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 由充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-185859
公開番号（公開出願番号）：特開平6-004669
出願日： 1992年06月19日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：

【要約】【目的】パターンマッチングの対象画素を効率的に削減することにより、相関演算の計算量を減少して処理時間を短縮させる。【構成】モデルパターンの各構成画素の濃度データを2次微分し、さらにその2次微分値の絶対値をとる。この2次微分値の絶対値を所定のしきい値THと比較し、2次微分値の絶対値がしきい値THより大きな値をとる画素のみをパターンマッチングの対象画素として選択する。

請求項（抜粋）：

対象物のモデルパターンを用いて入力された濃淡画像のパターンマッチングを行う装置において、モデルパターンの各構成画素の濃度データを2次微分して得られた値の絶対値が所定のしきい値を越える画素をパターンマッチングの対象画素として選択する画素選択手段を備えて成る濃淡画像のパターンマッチング装置。

IPC (5件)：

G06F 15/70 455 ,  G06F 15/70 320 ,  G06F 15/70 335 ,  G06K 9/36 ,  G06K 9/62