ハイドレートの製造方法および製造装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤田考晴 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-069294
公開番号（公開出願番号）：特開2000-264851
出願日： 1999年03月15日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：

【要約】【課題】ハイドレート形成物質と水とを効率的に反応させて高濃度のハイドレートを高速に生成する製造方法、およびその製造装置を提供する。【解決手段】ハイドレート生成容器1内で水とハイドレート形成物質(例えばメタン)とをハイドレート生成容器1内で反応させてハイドレートを製造するに際して、水相Lにメタンを気泡Kとして供給するとともに、ハイドレート生成容器1内のメタンで充満した気相Gに、過冷却水を噴霧状にスプレーする(符号10参照)。液相Lに導入されたメタンの一部はその気泡Kの気液界面から水相Lに吸収され、水と反応してメタンハイドレートMHに転化し、このハイドレートMHは、密度が水の密度より小さいので水相L中を浮上する。一方、水10と気相Gのメタンとは瞬時に反応してメタンハイドレートに転化し、このハイドレートは水相L上に降下する。生成したメタンハイドレート層を抜出して回収する。

請求項（抜粋）：

ハイドレート生成容器内で水とハイドレート形成物質とを反応させてハイドレートを製造する方法において、ハイドレート生成容器内の水相にハイドレート形成物質を気泡として供給するとともに、前記ハイドレート生成容器内の気相に、水を噴霧状にスプレーすることにより水和反応を起こさせることを特徴とするハイドレートの製造方法。

IPC (5件)：

C07C 5/00 , C07B 61/00 , C07B 63/02 , C07C 7/20 , C07C 9/04

FI (5件)：

C07C 5/00 , C07B 61/00 C , C07B 63/02 B , C07C 7/20 , C07C 9/04

Fターム (11件)：

4H006AA02 , 4H006AA04 , 4H006AC90 , 4H006AD33 , 4H006BC10 , 4H006BC11 , 4H006BD21 , 4H006BD33 , 4H006BD52 , 4H006BD81 , 4H006BE60

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