特許

J-GLOBAL ID：200903001611830060

ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法

発明者： 漢那 慎一
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-071482
公開番号（公開出願番号）：特開2008-268921
出願日： 2008年03月19日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：

【課題】液浸露光時にウォーターマークの発生を抑制しうるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】(A)下記一般式(a1-1)〜(a1-3)で表される繰り返し単位から選ばれる繰り返し単位(a1)、下記一般式(a2)で表される繰り返し単位(a2)、及び、下記一般式(a3-1)〜(a3-4)から選ばれる構造を有する繰り返し単位(a3)を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有し、アルカリ現像液に不溶な樹脂、並びに(D)溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(a1-1)〜(a1-3)で表される繰り返し単位から選ばれる繰り返し単位(a1)、下記一般式(a2)で表される繰り返し単位(a2)、及び、下記一般式(a3-1)〜(a3-4)から選ばれる構造を有する繰り返し単位(a3)を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、 (C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有し、アルカリ現像液に不溶な樹脂、並びに (D)溶剤、 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/023 ,  C08F 220/26 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/023 ,  C08F220/26 ,  H01L21/30 502R

Fターム (34件)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB34 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA11P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12R ,  4J100BC53P ,  4J100CA05 ,  4J100DA36 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭57-153433号公報
  
• パターン形成方法及びその露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-008136   出願人：株式会社日立製作所
• 国際公開第04-077158号パンフレット
  
• 国際公開第04-068242号パンフレット