特許

J-GLOBAL ID：200903001621807970

露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 高橋 和弘 ,  塩澤 崇永
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-252836
公開番号（公開出願番号）：特開平9-096908
出願日： 1995年09月29日
公開日（公表日）： 1997年04月08日
要約：

【要約】【課題】 実レチクルを搭載したまま光量モニタの受光感度を補正することのできる露光装置を提供する。【解決手段】 光源1とレチクルRの間に置かれ、露光光の一部を受光する第1の受光手段12と、レチクルRを載置した状態でレチクルRの転写パターン以外の箇所に露光光を透過する透過部14を設け、光軸と直交する方向に移動可能なレチクルステージ9と、透過部14を透過した露光光を受光する第2の受光手段13とを有する。

請求項（抜粋）：

光源と、該光源から発した露光光により転写パターンが形成されたマスクを照明する照明光学系とを有し、前記転写パターンを感光基板上に露光転写する露光装置において、前記光源と前記マスクの間に置かれ、前記露光光の一部を受光する第1の受光手段と、前記マスクを載置した状態で前記転写パターン以外の箇所に前記露光光が透過する透過部を設け、光軸と直交する方向に移動可能なマスクステージと、前記透過部を透過した前記露光光を受光する第2の受光手段とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  G03B 27/72 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/20 H ,  G03B 27/72 A ,  H01L 21/30 518