特許

J-GLOBAL ID：200903001625303178

セラミック分散メッキ形成用の噴射粉体、前記噴射粉体の製造方法、及び前記噴射粉体を使用したセラミック分散メッキ方法

発明者： 宮坂 四志男
出願人/特許権者： 株式会社不二機販
代理人 (1件)： 小倉 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-037607
公開番号（公開出願番号）：特開2000-239859
出願日： 1999年02月16日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：

【要約】【課題】 一度のブラスト処理により、セラミック粒子の分散と、金属被膜の形成を同時に行うことができるセラミック分散メッキ用の噴射粉体、前記噴射粉体の製造方法、及び前記噴射粉体を使用したセラミック分散メッキ方法を提供する。【解決手段】 被処理成品の表面を被覆する金属(被覆金属)を溶融し、該溶融金属中にセラミック粒子を混合すると共に、前記セラミック粒子の混合された溶融金属を粉末状に形成して被覆金属中にセラミック粒子が分散された噴射粉体を得る。この噴射粉体を金属又は金属を含む被処理成品の表面にブラストすると、噴射粉体中のセラミック粒子が被処理成品の表面に分散すると共に、被覆金属の組成元素が被処理成品の表面に拡散浸透してセラミック分散メッキが施される。

請求項（抜粋）：

金属又は金属成分を含む被処理成形品の表面にブラスト処理にて噴射され、被処理成品の表面に拡散浸透して被膜を形成する噴射粉体において、前記噴射粉体は、被覆金属中にセラミック粒子を分散して成ることを特徴とするセラミック分散メッキ形成用の噴射粉体。

IPC (2件)：

C23C 24/02 ,  B24C 11/00

FI (2件)：

C23C 24/02 ,  B24C 11/00 D

Fターム (11件)：

4K044AA02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA10 ,  4K044BA11 ,  4K044BA13 ,  4K044BA18 ,  4K044BC01 ,  4K044BC12 ,  4K044CA11 ,  4K044CA12 ,  4K044CA53

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭52-005627
  
• 特開昭52-005627