特許

J-GLOBAL ID：200903001629645472

水素吸蔵炭素

発明者： 久保木 貴志 ,  山本 雅秋 ,  高見 則雄 ,  大崎 隆久
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-278767
公開番号（公開出願番号）：特開2000-103612
出願日： 1998年09月30日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：

【要約】【課題】 室温で大量の水素を吸蔵することのできる水素吸蔵体を提供する。【解決手段】 賦活処理を施した炭素材料であり、窒素を用いたBET法による比表面積が100m2/g以上3000m2/g以下で、粉末X線回折により求められるd002が0.335nm以上0.360nm以下であり、d002を示すピークの半値幅が4°以下であることを特徴とする炭素を用いた。

請求項（抜粋）：

賦活処理を施した炭素材料であり、窒素を用いたBET法による比表面積が100m2/g以上3000m2/g以下で、粉末X線回折により求められるd002が0.335nm以上0.360nm以下であり、d002を示すピークの半値幅が4°以下であるることを特徴とする水素吸蔵炭素。

IPC (3件)：

C01B 31/08 ,  C01B 3/00 ,  H01M 12/08

FI (3件)：

C01B 31/08 Z ,  C01B 3/00 B ,  H01M 12/08 S

Fターム (18件)：

4G040AA33 ,  4G040AA36 ,  4G040AA42 ,  4G046HA03 ,  4G046HA07 ,  4G046HB00 ,  4G046HB01 ,  4G046HB03 ,  4G046HC03 ,  4G046HC09 ,  4G046HC10 ,  5H032AA05 ,  5H032BB02 ,  5H032EE01 ,  5H032HH00 ,  5H032HH01 ,  5H032HH04 ,  5H032HH06