特許
J-GLOBAL ID:200903001641824790

頭蓋計測用側方X線写真を使用した脳顔面頭蓋骨構造のモデリング方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-165333
公開番号(公開出願番号):特開平7-000381
出願日: 1993年07月05日
公開日(公表日): 1995年01月06日
要約:
【要約】【目的】 理想頭蓋骨を全く参照せずに頭蓋の骨点の成長変化進化を客観的に決定することができる脳顔面頭蓋骨構造のモデリング方法を提供する。【構成】 骨点を決定し、分析線をプロットし、角度を測定してこれらを閾値と比較し、長さを測定してこれらの長さを互いに比較することで頭蓋計測用側方X線写真から脳顔面頭蓋骨構造をモデリングする。
請求項(抜粋):
骨点を決定し、分析用に直線をプロットすることで頭蓋計測用側方X線写真から脳顔面頭蓋骨構造をモデリングする方法において、分析対象となる頭蓋の側方X線写真を撮影し;以下の表1に示す点P1〜P19をX線写真上に決定し;【表1】点P1,P2を通る直線D1と、点P3,P4を通る直線D2と、点P1,P3を通る直線D3とをプロットし;直線D3と後頭蓋輪郭との交点に点P15を決定し;直線D1に垂直かつ点P15を通る直線の基点に点P16を決定し;P3,P11,P12のなす角度と180°とを比較し;セクターP3,P11とP11,P12とを比較し;セクターP1,P5とP16,P5とを比較し;点P9を通り、頭蓋輪郭の点P14に接する直線D4をプロットし;直線D3に平行かつ点P9を通る直線D5をプロットし;直線(D5,D4)間の角度γを測定し;角度γの代数符号(正または負)を決定し;(P3,P11,P12のなす角度)<180°かつ(P3,P11)<(P11,P12)かつ(P1,P5)<(P16,P5)かつγが正である場合に頭蓋屈曲モデルとしてダイヤグラムを類別し;(P3,P11,P12のなす角度)>180°かつ(P3,P11)>(P11,P12)かつ(P1,P5)>(P16,P5)かつγが負である場合に頭蓋伸展モデルとしてダイヤグラムを類別するステップを含むことを特徴とする頭蓋計測用側方X線写真を使用した脳顔面頭蓋骨構造のモデリング方法。

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