特許
J-GLOBAL ID：200903001658209550
磁気転写方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-270059
公開番号（公開出願番号）：特開2004-110905
出願日： 2002年09月17日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】輸送中のマスター担体の表面への塵埃付着を防止するようにして転写品質の高い磁気転写が行えるようにする。【解決手段】情報を担持したマスター担体3と、転写を受けるスレーブ媒体2とを密着させ、転写用磁界を印加して磁気転写を行う際に、スレーブ媒体2と密着させる以前の輸送工程ではマスター担体3の転写パターンPの表面に保護膜5を設け、転写パターンPに直接塵埃が付着しないようにし、磁気転写前の剥離工程で保護膜5を除去した後にスレーブ媒体2と密着させて磁気転写を行う。保護膜5の除去は、化学的または物理的に除去する剥離工程で行う。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
情報を担持したマスター担体と、転写を受けるスレーブ媒体とを密着させ、転写用磁界を印加して磁気転写を行う磁気転写方法において、
磁気転写工程以前の輸送工程では前記マスター担体の表面に保護膜を設け、剥離工程で該保護膜を除去した後に前記スレーブ媒体と密着させて磁気転写を行うことを特徴とする磁気転写方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G11B5/86 101B
, G11B5/86 C
