特許
J-GLOBAL ID：200903001661291763
導電性ポリマーのパターン基板及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-067980
公開番号（公開出願番号）：特開平7-249317
出願日： 1994年03月11日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：
【要約】【構成】 導電性基板上に有機ポリシラン皮膜を形成した後、パターンマスクを通して放射線を上記ポリシラン皮膜に照射し、このポリシラン皮膜の放射線照射部分を分解すると共に、この分解部分を溶解可能な溶媒を含み、かつ電解重合により導電性ポリマーを形成可能なモノマー又はオリゴマーを溶解した電解重合液中に上記導電性基板を浸漬し、この基板を作用極として電解重合することにより、上記分解部分を電解重合液中に溶解させると共に、この溶解部分に導電性ポリマー皮膜を析出させて、導電性基板(1)上に導電性ポリマー(2)の所用パターンが形成されていると共に、このパターン間の空隙部分を埋めて有機ポリシラン皮膜(3)が形成された導電性ポリマーのパターン基板を提供する。【効果】 本発明の導電性ポリマーのパターン基板は、導電回路、光情報素子など、導電性材料、エレクトロクロミック材料等として有効に用いられ、本発明の製造方法によれば、かかるパターン基板を簡単にかつ確実に形成し得る。
請求項（抜粋）：
導電性基板上に導電性ポリマーの所用パターンが形成されていると共に、このパターン間の空隙部分を埋めて有機ポリシラン皮膜が形成されてなることを特徴とする導電性ポリマーのパターン基板。
IPC (3件)：
H01B 5/14
, C08G 77/60 NUM
, H01B 13/00 503
