特許
J-GLOBAL ID:200903001665276521

研磨装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-060031
公開番号(公開出願番号):特開2000-254860
出願日: 1999年03月08日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】【課題】 従来のCMP研磨装置で、光学的に研磨状態をモニターする際、研磨液6の影響について考慮されていなかった。測定光及び信号光がウェハ4と検出窓9の間の研磨液6を透過する際に、測定光及び信号光を、検出窓9と研磨液6の境界面が反射し、または砥粒が散乱し、または吸収する。そのため、光検出器に入射する信号光量が低下し、測定のS/N比が低下し、終点検出の測定精度が悪化する原因となっていた。【解決手段】本研磨装置は、研磨ヘッドに保持した研磨対象物を回転運動する研磨体の表面に押し付けつつ、研磨剤を供給しながら、前記研磨対象物と前記研磨体とに相対運動を与えながら、前記研磨対象物の被研磨面を研磨し、測定光を前記被研磨面に照射して得られる信号光から研磨状態を測定し、且つ研磨体が、測定光と信号光とを透過する1個以上の検出窓を備え、尚且つ検出窓の近傍の研磨液を排除する研磨液排除部を具える。
請求項(抜粋):
研磨対象物を保持する研磨ヘッドと研磨体とを具え、前記研磨体と前記研磨対象物との間に研磨液を介在させた状態で、前記研磨体と前記研磨対象物を相対移動させることにより、前記研磨対象物を研磨する研磨装置において、前記研磨中に研磨状態を測定するための測定光と信号光を通すための1個以上の検出窓を前記研磨体に具え、前記検出窓が上記研磨液に近い屈折率を有することを特徴とする研磨装置。
IPC (3件):
B24B 37/04 ,  G01N 21/59 ,  H01L 21/304 622
FI (3件):
B24B 37/04 K ,  G01N 21/59 Z ,  H01L 21/304 622 S
Fターム (18件):
2G059AA05 ,  2G059BB16 ,  2G059CC20 ,  2G059DD01 ,  2G059DD12 ,  2G059EE02 ,  2G059FF06 ,  2G059GG00 ,  2G059KK01 ,  2G059NN01 ,  3C058AA07 ,  3C058AA16 ,  3C058AB06 ,  3C058AC04 ,  3C058BA07 ,  3C058CB01 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17

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