特許
J-GLOBAL ID:200903001669716224

直流水素循環処理による炭化水素の並行水素処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-008330
公開番号(公開出願番号):特開平9-194853
出願日: 1997年01月21日
公開日(公表日): 1997年07月29日
要約:
【要約】【課題】 水素処理装置の並行的配置と、並行配置の反応装置を異なる水素分圧で運転可能とし、圧縮機に対する投資金額と施設コストを低減させる。【解決手段】 反応装置を直流で流れる水素を用い、並行の反応装置中で炭化水素供給原料流を水素処理する。即ち、軽質減圧軽油のような原料を水素含有循環流と共に第1反応装置(水素化分解)に供給し第1反応装置流出流を第1の水素含有流と第1の反応装置の製品流に分離し、重質減圧軽油のような原料を第1の水素含有流と共に第2反応装置(水素化処理)に供給し、第2反応装置の流出流を第2の水素含有流と第2の反応装置の製品流に分離し、補給水素を第2の水素含有流に添加後混合物を圧縮し循環して循環水素流を作成する。
請求項(抜粋):
直流水素循環処理による第1と第2の炭化水素供給原料を並行水素処理する方法であって、(1)第1接触反応装置領域で水素に富む循環気体流を用い第1の炭化水素供給原料を水素処理して第1反応装置流出流を作成し、(2)第1反応装置流出流を分離して第1の水素に富む気体流と第1の水素処理製品流を作成し、(3)第2接触反応装置領域で、第1反応装置領域より低い水素分圧で第1の水素に富む気体流を用いて、第2の炭化水素供給原料を水素処理して、第2反応装置流出流を作成し、(4)第2反応装置流出流を分離して第2の水素に富む気体流と第2の水素処理製品流を作成し、(5)第2の水素に富む気体流を圧縮し、そして(6)補給水素流を第2の水素に富む気体流に加えて、第1反応装置領域における水素処理のために水素に富む循環気体流を作成する諸工程を含むことを特徴とする前記水素処理方法。
IPC (5件):
C10G 65/12 ,  C10G 65/04 ,  C10G 65/10 ,  C10G 65/16 ,  C10G 65/18
FI (5件):
C10G 65/12 ,  C10G 65/04 ,  C10G 65/10 ,  C10G 65/16 ,  C10G 65/18

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