特許
J-GLOBAL ID：200903001671413794
プラズマディスプレイパネルの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-044556
公開番号（公開出願番号）：特開2004-265634
出願日： 2003年02月21日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：
【課題】フォトリソグラフィ法によりPDPの構造物の形成を行うPDPの製造方法において、フォトマスクに付着したダスト等により、PDPの構造物に欠陥が発生することを抑制することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を実現することを目的とする。【解決手段】フォトリソグラフィ法における露光は2回行い、1回目の露光と2回目の露光との間で、フォトマスク22を露光パターンのずれの許容範囲内で移動させる。フォトマスク22を移動させて、その前後で計2回の露光を行えば、フォトマスク22に付着したダスト22bにより露光が遮られることで未感光となる領域21aを、ほとんどなくすことが可能となり、すなわち、感光性Agペースト膜21に対するパターン露光を良好に行うことが可能となる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィ法によってプラズマディスプレイパネルの構造物の形成を行うプラズマディスプレイパネルの製造方法において、露光は2回行い、1回目の露光と2回目の露光との間で、フォトマスクを露光パターンのずれの許容範囲内で移動させることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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