特許

J-GLOBAL ID：200903001692609443

半導電性シームレスベルト及びその製造方法

発明者： 道本 忠憲
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (4件)： 鈴木 崇生 ,  梶崎 弘一 ,  尾崎 雄三 ,  谷口 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-371917
公開番号（公開出願番号）：特開2004-205617
出願日： 2002年12月24日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】中間転写型画像形成装置に用いられる中間転写ベルトにおいて、抵抗のばらつきが小さくかつ抵抗の環境変動が小さくて画像形成装置側で湿度の計測や制御を必要としない中間転写ベルトを提供することを目的とする。【解決手段】ポリアミド酸溶液と脱ドープ状態のポリアニリン溶液の混合物に脱水試薬とドーパントを配合して製造されるシームレスベルトであって、表面抵抗率の面内ばらつきや環境変動に対する影響を一定範囲にすることを特徴とする。また、ポリアニリンを適正量含む重合体を形成すること、脱水試薬が脱水剤と触媒との混合物であること、ドーパントが脱水試薬の反応生成物または所定の無機酸、有機酸であることがより好ましい。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

ポリアミド酸溶液と脱ドープ状態のポリアニリン溶液の混合物に脱水試薬とドーパントを配合して製造されるシームレスベルトであって、表面抵抗率が1×1010〜1×1013Ω/□でその面内ばらつきが0.5桁(logΩ/□)以内で、かつ、40°C×80%RHにおける表面抵抗値と10°C×15%RHにおける表面抵抗率との比が1.5桁(logΩ/□)以内であることを特徴とする半導電性シームレスベルト。

IPC (4件)：

G03G15/00 ,  C08L79/00 ,  C08L79/08 ,  G03G15/16

FI (4件)：

G03G15/00 550 ,  C08L79/00 A ,  C08L79/08 A ,  G03G15/16

Fターム (24件)：

2H171FA24 ,  2H171FA25 ,  2H171FA26 ,  2H171FA30 ,  2H171TA01 ,  2H171TB14 ,  2H171UA03 ,  2H171UA10 ,  2H171UA23 ,  2H171XA03 ,  2H200FA01 ,  2H200JC04 ,  2H200JC15 ,  2H200JC16 ,  2H200JC17 ,  2H200MA02 ,  2H200MA17 ,  2H200MA20 ,  2H200MB02 ,  2H200MB05 ,  2H200MC18 ,  4J002CM01W ,  4J002CM04X ,  4J002GQ02